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벨기에 아이멕이 기존 감광재를 활용해 22㎚ 피치의 초미세 반도체 회로를 단일 노광으로 구현했다. 이번 성과는 1나노급 차세대 로직 반도체 공정에 적용 가능하며, 기존 소재 생태계를 활용해 기술적 한계를 극복했다는 평가를 받는다.
"벨기에 반도체 연구기관 아이멕이 기존 화학증폭레지스트(CAR)를 활용해 22㎚ 피치의 초미세 반도체 회로를 단일 노광으로 구현했다. 8일(현지시각) 아이멕은 2026 SPIE 포토마스크 기술 및 극자외선(EUV) 리소그래피 컨퍼런스에서 ASML과 소재 공급업체 등 패터닝 생태계 파트너들과 공동으로 이 같은 성과를 거뒀다고 밝혔다."
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