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TSMC가 ASML과 협력하여 2031년까지 12인치 포토마스크 시험생산라인을 구축할 계획이다. 이는 차세대 노광장비인 하이 NA EUV 도입을 통해 반도체 생산성을 높이고 AI 수요에 대응하기 위한 전략이다.
"TSMC·ASML, 12인치 포토마스크 협력 결성 2031년까지 시험생산라인 구축 목표 2033년 하이NA EUV 리소그래피 완성 추진 전체 내용을 이해하기 위해서는 기사 본문과 함께 읽어야 합니다."
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