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삼성전자가 ASML 등 글로벌 기업들과 협력해 차세대 12인치 포토마스크 표준을 개발한다. 이를 통해 하이-NA EUV 공정의 한계를 극복하고 첨단 반도체 제조 경쟁력을 강화할 방침이다.
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